脈沖激光外延制備系統(tǒng)簡單實用的PLD系統(tǒng)、磁控濺射系統(tǒng)，性能穩(wěn)定的薄膜沉積系統(tǒng)，可提供PLD、磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜等多種薄膜制備方案，是多鐵性薄膜制備的設備，*的石墨烯生長裝置可以制備高質(zhì)量的石墨烯薄膜。

　　制備系統(tǒng)可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、石墨烯、碳納米管、2D材料，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶、聚合物、納米鉆、鉆涂層以及器件加工。

　　系統(tǒng)利用磁性氧化物中固有的氧空位，不需要離子液體柵極，有利于廣泛應用于氧化物多鐵異質(zhì)結構，簡化了設備的應用，此方法對利用離子運動調(diào)控多鐵材料電控磁性能提供了新的思路。與傳統(tǒng)制備色譜相比，有著高壓力，大流量，配備餾分收集器，具有更高的處理樣品能力，高精度梯度泵，可以實現(xiàn)梯度混合，雙泵頭設計降低了脈動，可以適應不同類型的色譜填料。

　　系統(tǒng)優(yōu)點

　　1、應用范圍廣，制備純度高，可適應不同柱子和填料。

　　2、全自動化設計，從軟件上實現(xiàn)對儀器全程控制，達到智能化。

　　3、可選配3DS 層析過程分析工具軟件，強大全譜分析功能。

　　4、安全可靠，壓力報警，流量報警。

　　5、軟件調(diào)節(jié)氘燈能量，可延長使用壽命溶劑輸送系統(tǒng)。

　　脈沖激光外延制備系統(tǒng)將激光聚焦于靶材上一個較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。在眾多的薄膜制備方法中應用較為廣泛，可用來制備金屬、半導體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，甚至還用來制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。