臺(tái)式納米顆粒沉積系統(tǒng)（納米團(tuán)簇）是一種臺(tái)式真空系統(tǒng)，可將超純非團(tuán)聚納米顆粒直接沉積到直徑達(dá) 50 毫米的任何表面上。專為共享研究或教學(xué)實(shí)驗(yàn)室而設(shè)計(jì)，學(xué)生和研究人員可以在各種納米技術(shù)項(xiàng)目中并行使用，而不必?fù)?dān)心交叉污染。應(yīng)用包括催化、光子學(xué)、儲(chǔ)能、傳感器和生命科學(xué)。

臺(tái)式納米顆粒沉積系統(tǒng)（納米團(tuán)簇）主要特點(diǎn)

• 沉積無(wú)烴和非團(tuán)聚的納米顆粒

• 從亞單層到高孔隙率 3-D 納米涂層

• 表面等離子體清潔和功能化

• 生成純金屬或化合物納米顆粒，如氧化物和氮化物。

• 多種材料可供選擇，包括 Ag、Au、Cu、Ni、Ir 和 Pt

• 使用石英晶體微量天平 （QCM） 進(jìn)行實(shí)時(shí)沉積控制

• 可重復(fù)的工藝，典型循環(huán)時(shí)間為 30 分鐘

• 室溫沉積與石墨烯、膜和塑料等精密基材兼容

規(guī)格

• 重量：約 60 公斤（113 磅）

• 尺寸 ：（長(zhǎng)x寬x高）70 x 50 x 60 厘米（27.6x 19.7 x 23.6 英寸）

消耗品

• 目標(biāo)大小 ：直徑 1 英寸（25.4 毫米），最大厚度 3 毫米

• 最大采樣量： 直徑 50 毫米

• 材料 ：導(dǎo)電材料，包括 Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Ti、Ir

控制軟件

直觀的用戶界面易于使用，不需要任何真空經(jīng)驗(yàn)。預(yù)裝的沉積配方使用戶能夠立即開(kāi)始沉積納米顆粒。

突出

• 抽真空和沉積序列的自動(dòng)化。

• 針對(duì) Au、Ag 和 Pt 等常見(jiàn)材料的預(yù)加載優(yōu)化沉積設(shè)置。

• 高級(jí)用戶可以選擇控制沉積條件，以根據(jù)他們的特定需求控制納米顆粒的尺寸和沉積速率。

• 使用沉積重量或沉積時(shí)間控制納米顆粒負(fù)載。

• 自動(dòng)記錄所有過(guò)程和真空參數(shù)。