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手動探針臺：手動探針臺是手動控制的，這意味著晶圓載物臺、顯微鏡以及定位器/操縱器都是由使用者手動移動的。因此一般是在沒有很多待測器件需要測量或數(shù)據(jù)需要收集的情況下使用手動探針臺。該類探針臺的優(yōu)點之一是只需要最少的培訓(xùn)，易于配置環(huán)境和轉(zhuǎn)換測試環(huán)境，并且不需要涉及額外培訓(xùn)和設(shè)置時間的電子設(shè)備、PC或軟件。由于其靈活和可變性高的特點，非常適合研發(fā)人員使用。半自動探針臺：半自動探針臺是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2004年3月17日啟用。支持4，5，6寸wafer分辨...

鹽霧氣溶膠發(fā)生器因其自身的優(yōu)勢廣泛應(yīng)用于制藥行業(yè)過濾器的檢漏。其用于潔凈室和密閉系統(tǒng)高效和較高效空氣過濾器系統(tǒng)的檢測。還可以在潔凈空氣和密閉工業(yè)部門用于氣流流型、自凈時間測定和泄漏測試。使用惰性氣體（通常是CO2）通過加熱器推動油氣化。在介紹氣溶膠光度計的它配合氣溶膠發(fā)生器，一起對高效過濾器檢漏。因為要在高效過濾器的上游增加發(fā)塵，就需要使用到氣溶膠發(fā)生器，使用的是堅固耐用的不銹鋼結(jié)構(gòu)，寬大的填充口，獨立的噴嘴控制。如過濾器驗證商，政府和商用核設(shè)施，制藥廠，醫(yī)藥設(shè)施等領(lǐng)域都能得...

在使用狹縫擠出式涂布機完畢工作中后與塑料水塔，泵一起清洗。要*去除乙酸乙酯的膠是非常艱難的。小量的強力膠殘存在擦抹輥上，會壅閉。那么，涂布機應(yīng)該如何清洗呢？清洗狹縫擠出式涂布機后應(yīng)留意：1、洗衣粉sp-751酸溶液，實際操縱時務(wù)必戴上膠皮手套，護目鏡，防護口罩等防護裝備。2、乙酸乙酯5-11的使用，如沒有臟東西的修復(fù)仍然能夠在流程6-8使用。3、洗滌液對金屬材料有侵蝕。假設(shè)涂層被有涂勝過1小時的洗滌液，它將有可能離開鉻涂層輥，這務(wù)必在1小時內(nèi)舉行。狹縫擠出式涂布機實際操縱流程...

一、磁控濺射概述磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，而上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。二、基本概念濺射：用荷能粒子轟擊固體表面時，固體表面原子受到荷能粒子碰撞，有可能獲得足夠的能量和動量，并從表面逸...

近年來，由于脈沖激光技術(shù)的發(fā)展日趨成熟，脈沖激光沉積（PLD）在薄膜制備領(lǐng)域的應(yīng)用已經(jīng)成為研究的熱點。由于脈沖激光具有高能量峰值以及短脈寬，燒蝕靶材時會濺射出大量復(fù)雜的微納粒子形成等離子體，等離子體在真空或背景氣體中經(jīng)過定向膨脹后到達基底，在基底上形成產(chǎn)物，因此利用PLD技術(shù)可以在基底上沉積特定成分和微納結(jié)構(gòu)的薄膜。脈沖激光沉積技術(shù)能夠制備類型廣泛且性能優(yōu)異的功能薄膜，因此目前被廣泛地應(yīng)用到光電、新能源、生物、超導(dǎo)、電子封裝、催化、傳感等領(lǐng)域。1、光電領(lǐng)域近年來，PLD制備二...

當(dāng)磁控濺射鍍膜機出現(xiàn)故障后應(yīng)先要向使用者了解故障的現(xiàn)象，之后要親自開機觀察故障，這樣才能更準(zhǔn)確、更快、更合理地排除故障。排除故障應(yīng)先檢測低真空是否正常（機械泵、羅茨泵、管道、下室、蒸發(fā)室），低真空正常后再開主泵，主泵正常后檢測下室真空中是否正常，下室真空正常再開高閥進行高真空檢測檢漏，直至達到真空，極限真空、保真空、恢復(fù)真空，如極限真空和保真空正常，而恢復(fù)真空和真空不正常則可能主泵有問題。今天給大家列舉一些磁控濺射鍍膜機使用過程中常見的故障和解決方法，希望能幫助大家！一、當(dāng)正...