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半自動光刻機在高精度微加工中的實際應用
半自動光刻機在高精度微加工中的實際應用 2025-04-15

隨著微電子技術和納米技術的快速發(fā)展,光刻技術成為了半導體制造和高精度微加工中的核心技術。尤其是半自動光刻機,憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經(jīng)在許多高精度微加工領域中得到了廣泛應用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發(fā)生化學...

  • 一文帶你快速了解磁控濺射鍍膜機的工作原理 2022-04-06

    磁控濺射鍍膜機是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜機原理:磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以...

  • 該如何提高激光直寫技術的精度呢? 2022-03-14

    激光直寫技術是一種近年來應用廣泛的超精密加工技術。該技術是一種利用強度可變的激光束,在基片表面實施有規(guī)則的高精度掃描。在掃描過程中,光刻基片隨載物平臺而運動。因此影響光刻元件的質(zhì)量取決于載物平臺的定位精度以及運動的穩(wěn)定性,影響光刻元件的快速性取決于系統(tǒng)的響應度?;跀?shù)字式伺服的運動控制器是超精密定位系統(tǒng)的關鍵。由于數(shù)字伺服濾波器是數(shù)字式伺服的運動控制器的核心,從而數(shù)字伺服濾波器的設計將影響系統(tǒng)的定位精度。數(shù)字伺服濾波器是指系統(tǒng)的閉環(huán)控制與調(diào)節(jié)采用數(shù)字技術,所有控制調(diào)節(jié)實現(xiàn)軟件...

  • 傳統(tǒng)常見的超聲波風速儀與Sonic超聲波風速計優(yōu)勢對比 2022-03-03

    超聲波風速儀的原理是測量超聲波脈沖在兩個探頭之間傳播的時間來計算空氣移動的速度,也就是風速。當空氣移動時,超聲波在兩個探頭之間的時間會變長或變短。超聲波在空氣里就像水里的魚,水的流動方向,順流而下或逆流而上,會影響魚行進的速度。傳統(tǒng)常見的超聲波風速儀,它有一個超聲波發(fā)射探頭,三個超聲波接收探頭。這樣,就可以測量在二維平面上3個方向上的風速。而Sonic超聲波風速儀該系統(tǒng)包括:單軸、雙軸或三軸探頭陣列,以及其他幾種新型探頭陣列設計。這些設計減少了流動不對稱和結(jié)構(gòu)構(gòu)件干擾造成的誤...

  • 淺析球磨測厚儀的正確操作步驟 2022-03-02

    球磨測厚儀的正確操作步驟:操作步驟:1.開機:裝入電池后按紅色按鍵或?qū)x器探頭垂直接觸被測物體表面并壓實,儀器將自動開機。(使用時務必要使探頭垂直接觸被測物表面并壓實,禁止接觸狀態(tài)下橫向滑動探頭,以免劃傷探頭前端紅寶石。每次測量后將儀器拿起,離開被測物10cm以上,再進行下次測量。)2.設置:球磨測厚儀開機后按紅色按鍵進入菜單,QNix4500為4個選項,QNix4500為2個選項:“Fe”為磁性金屬基體模式,“NFe”為非磁性金屬基體模式(僅QNix4500),“Fe/NF...

  • 勻膠機常用的2種滴膠方式介紹 2022-02-14

    勻膠機(SpinCoater)用于晶片基底材料的表面光刻膠涂覆。勻膠機由樣品臺、滴膠裝置和空心電動機組成,其工作原理是,通過在樣品臺上產(chǎn)生負壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺上,光刻膠液滴注在基底材料的表面,通過準確控制電動機的旋轉(zhuǎn)速度,以此來改變離心力的大小,同時通過控制膠液的流量來達到制備薄膜所需的厚度。常用的滴膠方式分為兩種:即靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠是在基片靜止時將光刻膠滴注到基片的中心位置,滴膠量約為1-10ml,但在滿足厚度需求的前提下,滴膠量還應根據(jù)光刻膠的...

  • 淺析多功能磁控濺射儀的主要特點 2022-01-06

    多功能磁控濺射儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。工作原理:是指電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用,產(chǎn)生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運動軌...

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