mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī)

半自動(dòng)光刻機(jī)
光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為全球*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上較早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏(yíng)得了用戶(hù)的青睞。

產(chǎn)地：韓國(guó)MIDAS公司，一能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性?xún)r(jià)比
型號(hào)：MDA-400M, MDA-60MS



mask aligner半自動(dòng)光刻機(jī)主要特點(diǎn):
- 光源強(qiáng)度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統(tǒng)控制：手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤(pán)范圍可調(diào)；
- 技術(shù)：可雙面對(duì)準(zhǔn)，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng)，最大放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對(duì)準(zhǔn)更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤(pán)可定做；
- 具有楔形補(bǔ)償功能；