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  • 激光直寫無掩膜光刻機(jī)
    激光直寫無掩膜光刻機(jī)

    激光直寫無掩膜光刻機(jī)紫外光直寫曝光 ,無需掩模,大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用,靈活性高,可直接通過電腦設(shè)計(jì)光刻圖形,并可根據(jù)設(shè)計(jì)要求隨意調(diào)整,可升級開放性系統(tǒng)設(shè)計(jì),按照客戶要求自由配置,使用維護(hù)簡單, 設(shè)備耗材價(jià)格低,應(yīng)用范圍廣,目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。

    更新時(shí)間:2025-12-04型號:
  • spin coater勻膠機(jī)
    spin coater勻膠機(jī)

    spin coater勻膠機(jī)既在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。

    更新時(shí)間:2025-12-04型號:
  • mask aligner半自動光刻機(jī)
    mask aligner半自動光刻機(jī)

    mask aligner半自動光刻機(jī)該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。

    更新時(shí)間:2025-12-04型號:
  • 勻膠機(jī),旋涂儀
    勻膠機(jī),旋涂儀

    勻膠機(jī),旋涂儀其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。

    更新時(shí)間:2025-12-03型號:
  • HOLOPRINT 納米壓印
    HOLOPRINT 納米壓印

    HOLOPRINT 納米壓印,使用戶能夠?qū)嶒?yàn)和測試許多壓印技術(shù);光固化樹脂和加工參數(shù),如壓力、速度和光照強(qiáng)度。這些檢查對于在大規(guī)模生產(chǎn)之前進(jìn)行擴(kuò)展非常有用 - 在內(nèi)部構(gòu)建原型的能力將節(jié)省時(shí)間和資源。HoloPrint® uniA6 DT還允許中開發(fā)壓印模板。

    更新時(shí)間:2025-12-04型號:
  • MDA-20SA光刻機(jī)
    MDA-20SA光刻機(jī)

    MDA-20SA光刻機(jī)產(chǎn)地:韓國MIDAS公司,唯1能做到圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)光刻機(jī),高性價(jià)比。

    更新時(shí)間:2025-12-04型號:
  • PL SERIES納米壓印
    PL SERIES納米壓印

    PL SERIES納米壓印,提供了一個(gè)帶有微定位裝置的機(jī)械平臺,用于安裝納米壓印室、UV固化源和校準(zhǔn)顯微鏡。它既可以作為納米壓印系統(tǒng),也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準(zhǔn)器,同時(shí)為您的整個(gè)壓印過程提供可編程的自動控制。

    更新時(shí)間:2025-12-04型號:
  • MDA-80FA全自動光刻機(jī)
    MDA-80FA全自動光刻機(jī)

    MDA-80FA全自動光刻機(jī),操作簡單,PLC操作,PC控制,圖像采集和數(shù)據(jù)記錄,100多個(gè)程序配方,顯微鏡位置控制系統(tǒng),自動對齊標(biāo)記搜索功能。

    更新時(shí)間:2025-12-04型號:
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