俄歇電子能量譜組件(AES、Auger)是一種利用高能電子束為激發(fā)源的表面分析技術(shù). AES分析區(qū)域受激原子發(fā)射出具有元素特征的俄歇電子。俄歇電子在固體中運(yùn)行也同樣要經(jīng)歷頻繁的非彈性散射，能逸出固體表面的僅僅是表面幾層原子所產(chǎn)生的俄歇電子，這些電子的能量大體上處于 10～500電子伏，它們的平均自由程很短，大約為5～20埃,因此俄歇電子能譜所考察的只是固體的表面層。俄歇電子能譜通常用電子束作輻射源，電子束可以聚焦、掃描，因此俄歇電子能譜可以作表面微區(qū)分析，并且可以從熒光屏上直接獲得俄歇元素像。它是近代的考察固體表面的強(qiáng)有力工具，廣泛用于各種材料分析以及催化、吸附、腐蝕、磨損等方面的研究。

我司的microCMA 操作簡單，易于維護(hù)，提供完整的定量表面敏感元素俄歇電子 （AES） 分析儀套件，可安裝在 2.75" / 70 mm CF 法蘭上。

光學(xué)元件末端到采樣距離為4 mm。

由于microCMA非常小，因此同軸內(nèi)置電子槍被限制在3 kV。 

對(duì)于元素分析，microCMA比獨(dú)立的XPS系統(tǒng)便宜得多。 

完整的AES系統(tǒng)包括圓柱形鏡面分析儀（帶有集成的同軸電子槍），USB接口控制器以及Windows采集和數(shù)據(jù)按摩軟件。
讓俄歇分析變得簡單！ 

俄歇電子能量譜組件應(yīng)用

microCMA是一款俄歇光譜圓柱鏡分析儀，專為許多不需要AES映射功能的俄歇分析應(yīng)用而設(shè)計(jì)
這些應(yīng)用包括分析：

薄膜元素組合物

樣品清潔度

金屬成分熱氧化物

輕元素表面膜的量化

特征

緊湊的結(jié)構(gòu)：適用于 2.75" / 70 mm CF 法蘭（最小 1.52" / 38.6 mm 內(nèi)徑管）。 現(xiàn)在可以僅用一個(gè)T型離子泵構(gòu)建一個(gè)俄歇光譜系統(tǒng)！

久經(jīng)考驗(yàn)的設(shè)計(jì)：柱面鏡分析器的二階聚焦提供了良好的傳遞效果和優(yōu)異分辨率。。

易于使用：USB控制和俄歇數(shù)據(jù)信息分析軟件界面易于使用，使俄歇分析變得容易。

強(qiáng)力功能：俄歇光譜（AES）是一種可為您提供樣品表面數(shù)層的定量信息的強(qiáng)力表面靈敏技術(shù)。

優(yōu)勢

microCMA的小直徑使其適合現(xiàn)有的沉積或分析室。

由于microCMA基于經(jīng)典的圓柱形鏡面分析儀設(shè)計(jì)，因此與較大的CMA相比，它具有相似的信噪比。基本上，microCMA收集的電子與較大的CMA相同;它只是收集更接近樣品的電子。

集成的 3 kV 電子槍簡化了 CMA 到樣品的對(duì)準(zhǔn)。

電子槍的具有自動(dòng)功能，例如熱身和調(diào)節(jié)。

microCMA非常適合薄膜的元素表面分析和檢查樣品的清潔度

CMapp Auger 軟件提供對(duì)采集參數(shù)的控制，然后量化采集后的數(shù)據(jù)。

應(yīng)用參考：

室溫和100℃環(huán)境下利用連續(xù)表面反應(yīng)進(jìn)行結(jié)晶氮化鎵薄膜的電子增強(qiáng)生長 - Sprenger，Sun，Cavanagh，Roshko，Blanchard，George，材料化學(xué)，U. Colorado – 2016

抑制二次電子噪聲的微型柱面鏡俄歇電子能量分析儀的設(shè)計(jì)與仿真 - Jay A. Bieber，南佛羅里達(dá)大學(xué) – 2017

在室溫和100°C下氮化硼薄膜的電子增強(qiáng)原子層沉積 - Sprenger，Sun，Cavanagh，Roshko，Blanchard，George - J Phys Chem C納米材料界面?？屏_拉多州 – 2018

在W（100）上Ba-Sc-O脫附的實(shí)驗(yàn)中俄歇電子能譜與微同步輻射x射線光電子能譜的關(guān)聯(lián)性研究 -孟彩霞，李一凡，吳浩，魏偉，寧艷曉，崔毅，傅強(qiáng)，寶鑫和 - 物理化學(xué) 化學(xué) 化學(xué) 物理 – 2018

利用AIMS診斷功能用于托卡馬克磁約束聚變環(huán)流器內(nèi)部的高Z位置的侵蝕測量的一種離子束原位分析方法的開發(fā)和測試 - Leigh A. Kesler，麻省理工學(xué)院 – 2019

Pt（111)表面的h-BN在氧氛環(huán)境內(nèi)的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變- Mroz，Kordesch，Sadowski，Tenney，Eads - 真空科學(xué)與技術(shù)雜誌，B.Brookhaven國家實(shí)驗(yàn)室 – 2020

SO2在石墨烯上的吸附和反應(yīng)動(dòng)力學(xué)：超高真空表面科學(xué)研究- Stach，Johnson，Stevens，Burghaus - 真空科學(xué)與技術(shù)雜志，北達(dá)科他州 – 2021

電子增強(qiáng)原子層低溫沉積鈷膜的空心陰極等離子體電子源 - Sobell1，Cavanagh1，Boris，Walton，George - 真空科學(xué)與技術(shù)雜志，U. Colorado，研究實(shí)驗(yàn)室 - 2021