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簡要描述：UHV磁控濺射源是高質量的磁控濺射源，用于超高真空應用的圓形磁控管，可以單獨提供，也可以集成到定制的真空系統(tǒng)中。這些圓形磁控濺射源與所有 UHV 系統(tǒng)兼容。
產(chǎn)品型號：廠商性質：代理商更新時間：2025-12-04訪 問 量：41詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
UHV磁控濺射源主要特點：
可烘烤至 250°C（無需移除磁鐵）
高達 40% 的出色靶材利用率
用于磁性材料的標準和高強度磁體
平衡或不平衡磁體配置的選項
簡單的卡口夾，便于直接安裝目標
包括手動或氣動控制快門之間的選擇
可用的濺射靶尺寸：1 英寸、2 英寸和 3 英寸
用戶友好的設計，帶有易于更換的磁鐵
可定制的真空長度
兼容 DC、RF、脈沖直流（單極或雙極）和 HiPIMS 電源
UHV磁控濺射源規(guī)格
恒星源 | 1.0″ | 2.0″ | 3.0″ |
安裝法蘭 （CF （O.D.） | 4.5 英寸 | 6.0 英寸 | 6.0 英寸 |
114 毫米 | 152 毫米 | 152 毫米 | |
NW63CF | NW100CF | NW100CF | |
兼容 UHV | 是的，可在高達 250°C 的溫度下烘烤（無需移除磁鐵） | ||
真空長度 | 200 毫米或 300 毫米 – 可根據(jù)要求提供特殊長度 | ||
源頭的真空直徑 | 45 毫米 | 72 毫米 | 93 毫米 |
目標大小 | 1.0 英寸（25 毫米） | 2.0 英寸（50 毫米） | 3.0 英寸（75 毫米） |
目標物厚度（使用標準磁鐵的非磁性目標物） | 最大 3 毫米 | 最大 3 毫米 | 最大 3 毫米 |
目標物厚度（帶有強磁鐵的非磁性目標物） | 不適用 | 最大 7 毫米 | 最大 7 毫米 |
目標物厚度（帶有強磁鐵的磁性目標物） | 不可用 – | 最大 1 毫米 | 最大 2 毫米 |
0.4mm，帶標準 | |||
磁性元件 | |||
磁鐵 | 對于磁性或非磁性材料，平衡或不平衡，用戶可以輕松 | ||
更換 | |||
電源 | 直流、射頻、脈沖直流（單極或雙極）、HiPIMS | ||
快門 | 一體式手動或可選氣動操作 | ||
冷卻 | 最小水流量為 1 I/min | ||
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