表面光電壓譜(SPS)是一種強(qiáng)有力的技術(shù),廣泛應(yīng)用于研究納米材料的表面狀態(tài)。納米材料由于其較大的表面能和特殊的物理化學(xué)性質(zhì),其表面狀態(tài)對(duì)材料的電子性能、催化活性及光電性能等具有重要影響。表面光電壓譜是通過照射不同波長的光源,激發(fā)納米材料表面電子,并測(cè)量由此產(chǎn)生的表面光電壓信號(hào)的變...
超聲波風(fēng)速計(jì)的工作原理主要基于超聲波時(shí)差法。它利用發(fā)送聲波脈沖,并測(cè)量接收端的時(shí)間或頻率(多普勒變換)差別來計(jì)算風(fēng)速和風(fēng)向。具體來說,超聲波在空氣中的傳播速度會(huì)隨風(fēng)速而改變。當(dāng)聲波順風(fēng)傳播時(shí),其速度會(huì)加快;而當(dāng)聲波逆風(fēng)傳播時(shí),其速度會(huì)變慢。通過測(cè)量聲波在順風(fēng)和逆風(fēng)下的傳播時(shí)間差,可以計(jì)算出風(fēng)速的大小和方向。超聲波風(fēng)速計(jì)具有高靈敏度,能夠檢測(cè)到非常微小的風(fēng)速變化,因此具有高精度。聲學(xué)測(cè)風(fēng)量程寬,適用于不同風(fēng)速范圍的測(cè)量。響應(yīng)時(shí)間快,能夠迅速捕捉到風(fēng)速和風(fēng)向的變化。超聲波風(fēng)速計(jì)沒...
磁控濺射鍍膜機(jī)是一種先進(jìn)的物理氣相沉積(PVD)設(shè)備,在多個(gè)科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。在真空環(huán)境中,通過電場(chǎng)加速的高能離子(通常為氬離子)轟擊靶材表面,將靶材原子或分子從材料表面“濺射”出來。這些被濺射出的原子具有較高動(dòng)能,隨后沉積在基片上形成薄膜。磁場(chǎng)的引入增強(qiáng)了濺射過程,使得電子在磁場(chǎng)作用下沿螺旋軌道運(yùn)動(dòng),增加了靶材表面附近的電子密度,進(jìn)而提高了濺射速率。磁控濺射鍍膜機(jī)具有多種性能特點(diǎn),包括:高沉積率:特別是在沉積高熔點(diǎn)的金屬和氧化物薄膜時(shí),磁控濺射鍍膜機(jī)表現(xiàn)出高效...
英國KP開爾文探針是一種無損的表面電學(xué)性能測(cè)量工具,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、表面物理和納米技術(shù)領(lǐng)域。尤其是在納米材料的表面性能表征中,KP技術(shù)因其高空間分辨率和非接觸性,逐漸成為一種重要的表面電勢(shì)(工作函數(shù))測(cè)量方法。英國KP開爾文探針原理及特點(diǎn)開爾文探針技術(shù)的基本原理是利用探針和樣品之間的接觸電勢(shì)差來測(cè)量表面電勢(shì)。通過測(cè)量表面電勢(shì)差,能夠獲得樣品的工作函數(shù)信息。工作函數(shù)是材料表面電子逸出所需的Z小能量,直接反映了材料的電學(xué)性質(zhì)。KP技術(shù)的優(yōu)勢(shì)是能夠進(jìn)行非接觸、無損的高精度表面電...
開爾文探針掃描系統(tǒng)(KPFM)是一種結(jié)合了原子力顯微鏡(AFM)和開爾文探針技術(shù)的表面電學(xué)成像技術(shù)。通過測(cè)量樣品表面電勢(shì)差,KPFM能夠提供高分辨率的電學(xué)特性圖像。隨著技術(shù)的發(fā)展,KPFM已廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,成為研究納米材料、半導(dǎo)體、催化劑、能源材料等的重要工具。1、納米材料與表面科學(xué)在納米材料研究中,開爾文探針掃描系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于表面電勢(shì)和功函數(shù)的測(cè)量。納米材料的表面電學(xué)性能往往與其結(jié)構(gòu)、形貌和表面缺陷密切相關(guān),KPFM可以精確測(cè)量這些微小變化。例如,在碳納米管、石墨烯和量...
氣溶膠粒徑譜儀作為一種精密的科學(xué)儀器,定期的維護(hù)保養(yǎng)對(duì)其穩(wěn)定運(yùn)行和精確測(cè)量至關(guān)重要。正確的維護(hù)不僅可以延長使用壽命,還能確保數(shù)據(jù)的可靠性。下面是幾種常見氣溶膠粒徑譜儀的維護(hù)保養(yǎng)指南,涵蓋了日常檢查、故障排查和長期保管建議。一、日常維護(hù)1.清潔外表面:使用軟布蘸取溫和清潔劑輕輕擦拭外殼,避免使用腐蝕性強(qiáng)的化學(xué)品。2.保持通風(fēng)良好:確保儀器周圍無阻礙散熱的物品堆放,避免過熱導(dǎo)致電子元件損壞。3.干燥環(huán)境:放置在相對(duì)濕度低于80%RH的地方,以防潮氣侵蝕敏感組件。4.電源穩(wěn)定:連接...
磁控濺射鍍膜儀主要用于在真空條件下,利用濺射原理在基體表面沉積薄膜,以制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于電子、光電、光學(xué)、醫(yī)療等行業(yè),用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜,可鍍制磁性材料和非磁性材料。磁控濺射鍍膜儀的工作原理基于濺射現(xiàn)象。通常將欲沉積的材料制成板材靶,固定在陰極上,基片置于正對(duì)靶面的陽極上,距靶一定距離。系統(tǒng)抽至高真空后充入一定壓強(qiáng)的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。...
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