亚洲一区二区免费在线观看,五月激情综合在线视频,内射视频免费在线观看,制服美女日韩欧美中文

高精度激光直寫光刻機，是一個用于直接CAD到基板精確圖案化的系統(tǒng)。它既可以用作通用圖案化工具，也可以用作滿足特定研究或生產需求的專業(yè)系統(tǒng)。

UV-LED曝光系統(tǒng)，適用于MEMS、微流體、光子學、半導體和光伏應用中使用的各種基板和光刻膠。我們的標準UV照明產品系列滿足了300毫米寬（11.8英寸）掩模和晶片的光刻需求。

NANO IMPRINT納米壓印，既可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準器，同時為您的整個壓印過程提供可編程的自動控制。

SPIN-1200T勻膠機，適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。

SPIN-4000A勻膠機，觸摸屏控制，可編程配方管理，操作簡單，采用排液、排液孔、分液器。

紫外激光直寫光刻機，用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西，從光掩模到基礎科學或應用科學的研究原型，集成相機可以用來調整現(xiàn)有的功能寫。

MDA-400M光刻機，易于操作和安裝，處理各種尺寸的基板，帶觸摸屏面板的PLC控制。

無掩膜光刻機, 激光直寫系統(tǒng)是一個高價值的直寫激光光刻機系統(tǒng)，面向大學和研究機構尋求擴大他們的能力。 它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西，從光掩模到基礎科學或應用科學的研究原型，集成相機可以用來調整現(xiàn)有的功能寫。