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負(fù)性光刻膠 （SU-8）-光刻機(jī)用 SNR負(fù)性光刻膠，針對(duì)微機(jī)械加工微電子應(yīng)用，高對(duì)比度，環(huán)氧樹(shù)脂類(lèi)負(fù)性光刻膠。 具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像 近紫外（350-400nm）處理 單旋涂膜厚度為1.5至200µm 高度耐化學(xué)性和耐溫度性 與已建立的SU-8光刻工藝兼容

納米壓印-光刻機(jī) 緊湊型滾筒納米壓印機(jī) 我們的桌面R2P納米打印機(jī)是原型設(shè)計(jì)，實(shí)驗(yàn)和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的理想工具。 臺(tái)式R2P納米壓印機(jī)單元適用于小規(guī)模納米壓印光刻工作。該設(shè)備是快速原型制作、測(cè)試和表征結(jié)構(gòu)特性的理想選擇，其中包括使用光固化樹(shù)脂和壓印材料。 ?典型應(yīng)用范圍從壓印、片上實(shí)驗(yàn)室到衍射光學(xué)元件和其他納米壓印結(jié)構(gòu)。桌面R2P納米打印機(jī)在其受保護(hù)的環(huán)境中工作。

全自動(dòng)光刻機(jī) 公司開(kāi)發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)和甩膠機(jī)，是韓國(guó)*家研發(fā)并商業(yè)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的企業(yè)，始終致力于不斷完善、增強(qiáng)技術(shù)型企業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力。

納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī) 介紹了一個(gè)臺(tái)式、獨(dú)立的納米壓印平臺(tái)。該平臺(tái)提供了一個(gè)帶有微型定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室、紫外線(xiàn)固化

硅穿孔工藝設(shè)備-光刻機(jī) 晶圓和晶圓之間制作垂直導(dǎo)通，實(shí)現(xiàn)芯片之間互連的新技術(shù)。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線(xiàn)短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術(shù)中引人注目的新技術(shù)。

狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機(jī) 狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復(fù)制重復(fù)性測(cè)試。歸功于桌面小型化的設(shè)計(jì)。它也可以大幅降低材料損耗。客戶(hù)通過(guò)快速的多樣化測(cè)試來(lái)獲得更多客觀(guān)結(jié)果。

無(wú)掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī) 美國(guó)IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無(wú)掩模曝光技術(shù)，已成為無(wú)掩模紫外光刻領(lǐng)域的。國(guó)內(nèi)參考用戶(hù)較多！

勻膠機(jī)、旋涂?jī)x（德國(guó)產(chǎn)、高性能）SPIN150i單片勻膠機(jī)/旋涂?jī)x具有廣泛應(yīng)用，包括 甩干，沖洗，清潔，涂膠。臺(tái)式設(shè)計(jì)，無(wú)縫全塑料材質(zhì)， 有天然聚丙烯（NPP）和聚四氟乙烯材質(zhì)（PTFE）可選。有各種吸盤(pán)，適合樣品襯底5mm--?160mm （or 6”） or 4“x4“. 更大尺寸均有??！